近日，據(jù)媒體報道 ， 國內(nèi)最早進的蝕刻巨頭，中微半導(dǎo)體成功自研出了3nm蝕刻機！各項性能指標(biāo)均已通過權(quán)威機構(gòu)的檢測，所有技術(shù)都是100%國產(chǎn)，更重要的是，這項創(chuàng)新裝備已經(jīng)開始量產(chǎn) 。
如果把光刻機比喻為芯片制造的“魂”，那么蝕刻機就是“魄”，這兩項裝備在芯片制造產(chǎn)業(yè)中的重要性旗鼓相當(dāng) 。
【國產(chǎn)巨頭突破3納米】

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“光刻”是指利用紫外線光源技術(shù)對設(shè)計好線路圖的晶圓進行刻畫 。
“刻蝕”則是在光刻以后，用化學(xué)腐蝕液將硅片上過剩的部分“去除”，從而讓晶圓變成半導(dǎo)體器件 。
截至目前 ， 中微半導(dǎo)體是全球唯逐一家都能生產(chǎn)3nm精度蝕刻機的企業(yè) 。以“一代芯片 ， 一代裝備”來看，國產(chǎn)3nm蝕刻機毫無疑問將成功進入最早進3nm芯片制造的裝備供應(yīng)鏈 。
全球最大的兩家代工企業(yè)，臺積電和三星均已向中微半導(dǎo)體下單 。
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