電子束蒸發(fā)鍍膜機(電子束蒸發(fā)鍍膜)
電子束蒸發(fā)鍍膜機的制造 ***。本發(fā)明涉及一種電子束蒸發(fā)鍍膜機的制造 *** ，包括以下步驟 。首先，將基板浸漬在含有溶劑的水溶液中，然后將基板置于真空空室中，在真空室中加熱基板，使基板表面形成一層薄膜 。接著，將薄膜置于真空室中，并保持真空度為0.1～0.3mpa，然后將薄膜移出出，在真空室中冷卻至室溫 ， 即得到所需的復(fù)合材料 。本發(fā)明制備工藝簡單，成本低廉 ， 易于實現(xiàn)產(chǎn)業(yè)化生產(chǎn) 。
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真空蒸發(fā)膜技術(shù)是最早應(yīng)用的真空鍍膜技術(shù)，在光學、半導(dǎo)體器件、塑料金屬化等領(lǐng)域至今仍發(fā)揮著重要作用 。作為離子鍍膜技術(shù)的基?。?嬋照舴⒍頗ぜ際跏竊詬噠嬋斬戎薪?燙迥ち霞尤取⒄舴ⅲㄉ??┏晌?羝??櫻?緩蟮醬錒ぜ?緯殺∧さ募際?。根據(jù)將固態(tài)膜料加熱汽化的 *** 不同，分為電阻蒸發(fā)鍍、電子槍蒸發(fā)鍍、激光蒸發(fā)鍍、高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)鍍,主要特點如下所示 。
名稱
電阻蒸發(fā)鍍
電子槍蒸發(fā)鍍
高頻感應(yīng)加熱蒸發(fā)鍍
激光蒸發(fā)鍍
熱能來源
難熔金屬
電子束
高頻感應(yīng)電流
激光
密度功率
小
10e4 W/cm2
10e3 W/cm2
10e6 W/cm2
特點
簡單，成本低
金屬化合物
高熔點膜料
速度快
蒸發(fā)速率達
溫度穩(wěn)定均勻
膜料一次裝填
純度高，不分餾
一、電阻蒸發(fā)鍍膜機
電阻蒸發(fā)鍍膜機由鍍膜室、抽真空系統(tǒng)、蒸發(fā)源系統(tǒng)、工件架組成，還配有基板加熱裝置、進氣系統(tǒng)、轟擊系統(tǒng)和轟擊電源等等 。如圖所示：鍍膜室上方安裝工件架，工件置于工件架上；下發(fā)有電阻蒸發(fā)源，真空度在6e-3pa左右 ， 蒸發(fā)源一般采用電阻溫度系數(shù)高的金屬鎢、鉬、鉭等等 ***。工作時，蒸發(fā)電極上通低電壓高電流的交流電，讓難熔金屬源升溫 ， 使低熔點膜料熔化蒸發(fā) 。蒸汽原子克服原子間的作用力離開金屬面進入氣相到達工件表面凝結(jié)成金屬薄膜的一個過程 。
二、電子槍蒸發(fā)鍍膜機
電子槍蒸發(fā)鍍膜機由真空室、抽真空系統(tǒng)、電子槍系統(tǒng)、水冷坩堝、工件架、工件加熱裝置、轟擊電極組成，還配有蒸發(fā)電源、加熱電源、轟擊電源和進氣系統(tǒng)等等 。如圖所示：真空室上方安裝工件架，工件置于工件架上；下方安裝電子蒸發(fā)源 ， 真空度在6e-3pa左右 。
電子槍組件
坩堝
三、激光蒸發(fā)鍍膜機
激光蒸發(fā)鍍膜機是將激光束的能量轉(zhuǎn)化為熱源，直接加熱膜層材料，能量密度達到10e6W/cm2以上的激光束無接觸使膜料加熱蒸發(fā)鍍在工件表面 。正因如此，很多高熔點膜材，需要超高真空零污染零加熱的特殊工件鍍膜需求采用此 *** ，如沉積介質(zhì)膜、半導(dǎo)體莫、金屬膜和化合物膜等 。因為 *** 大功率連續(xù)式激光器的成本較高，所以它的應(yīng)用范圍有一定的限制 ， 目前尚不能在工業(yè)中廣泛應(yīng)用 。
激光蒸發(fā)鍍膜機示意
真空蒸發(fā)鍍膜技術(shù)是應(yīng)用最早的鍍膜技術(shù)，至今仍舊廣泛應(yīng)用 ， 如半導(dǎo)體器件中的導(dǎo)線、光學鏡頭、激光武器、手機蓋板、防偽膜、屏蔽膜、食品包裝袋、醫(yī)用包裝袋等等，根據(jù)不同的產(chǎn)品使用需求可分為立式蒸發(fā)鍍膜機、臥式蒸發(fā)鍍膜機和卷繞蒸發(fā)鍍膜機 。
立式蒸發(fā)鍍膜機
立式蒸發(fā)鍍膜機
立式蒸發(fā)鍍膜機多是單室機 ， 并配有抽真空系統(tǒng) 。它廣泛應(yīng)用在光學鏡片，紅外、紫外器件 ， 天文望遠鏡，手機蓋板，汽車燈反光罩等
光學鏡片
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手機蓋板
車燈反光罩
卷繞蒸發(fā)鍍膜機分為上下兩個室，上方是柔性薄膜卷繞室；下方是鍍膜室，安裝熱蒸發(fā)源 。兩個室各自配有抽真空系統(tǒng)維持各自的真空度，卷繞室真空度在1e-1pa左右，鍍膜室真空度在2e-2pa左右 。它能夠?qū)︺~箔、鋁箔、有機薄膜、織物、紙張等柔性基材上沉積多種功能的薄膜 ， 廣泛應(yīng)用在電屏蔽膜、電容器膜、防偽膜、裝潢膜、包裝膜、阻隔膜、反光膜、隔熱膜、汽車膜及柔性透明導(dǎo)電膜上 。
卷繞式蒸發(fā)鍍膜機
【電子束蒸發(fā)鍍膜 ?電子束蒸發(fā)鍍膜機】卷繞式蒸發(fā)鍍膜機
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